离子束加工

离子束加工的原理和电子束加工基本类似，也是在真空条件下，将离子源产生的离子束经过加速聚焦，使之撞击到工件表面。离子束的加工装置主要由包括离子源、真空系统、控制系统和电源等。

离子束工主要特点如下：

1.加工的精度非常高。

2.污染少。

3.加工应力、热变形等极小、加工精度高。

4.离子束加工设备费用高、成本贵、加工效率低。

离子束加工的分类

离子束加工依其目的可以分为蚀刻及镀膜两种。

蚀刻又可在分为溅散蚀刻和离子蚀刻两种。

离子在电浆产生室中即对工件进行撞击蚀刻，为溅散蚀刻。

产生电子使以加速之离子还原为原子而撞击材料进行蚀刻为离子蚀刻。

应用：

1.蚀刻加工：

离子蚀刻用于加工陀螺仪空气轴承和动压马达上的沟槽，分辨率高，精度、重复一致性好。

离子束蚀刻应用的另一个方面是蚀刻高精度图形，如集成电路、光电器件和光集成器件等征电子学构件。

太阳能电池表面具有非反射纹理表面。

离子束蚀刻还应用于减薄材料，制作穿透式电子显微镜试片。

2.离子束镀膜加工：

离子束镀膜加工有溅射沉积和离子镀两种形式。

离子镀可镀材料范围广泛，不论金属、非金属表面上均可镀制金属或非金属薄膜，各种合金、化合物、或某些合成材料、半导体材料、高熔点材料亦均可镀覆。

离子束镀膜技术可用于镀制润滑膜、耐热膜、耐磨膜、装饰膜和电气膜等。

离子束装饰膜。

离子束镀膜代替镀铬硬膜，可减少镀铬公害。

提高刀具的寿命。

分类：

1.离子蚀刻或离子铣削：Ar离子倾斜轰击工件，使工件表面原子逐个剥离。

2.离子溅射沉积：Ar离子倾斜轰击某种材料的靶，靶材原子被击出后沉淀在靶材附近的工件上，使之表面镀上一层薄膜。

3.离子镀或离子溅射辅助沉积：它和离子溅射沉积的区别在于同时轰击靶材和工件，目的是为了增强膜材与工件基材之间的结合力。

4.离子注入：较高能量的离子束直接轰击被加工材料，使工件表面层含有注入离子，改变了工件表面的化学成分，从而改变了工件表面层的物理、力学和化学性能，满足特殊领域的要求。